年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Nitrogen Tri），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼔泛的具有⼔泛的公司。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚是、平显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体咔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热玥宭应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剤体。

Nitrogén trifluorida, rumus kimia NF3, mangrupakeun agén pangoksidasi kuat. Salaku gas husus industri penting, éta boga rupa-rupa aplikasi.
Dina industri microelectronics, nitrogén trifluoride mangrupa gas etching plasma alus teuing; Dina chip semikonduktor, tampilan panel datar, serat optik, sél photovoltaic jeung widang manufaktur sejen, nitrogén trifluoride utamana dipaké salaku gas etching plasma jeung agén beberesih rohangan réaksi.
Ogé bisa dipaké dina lasers kimiawi-énergi tinggi pikeun ngahontal aplikasi na ku ngaréaksikeun jeung hidrogén pikeun emit jumlah badag panas dina instan. Nitrogén trifluorida ogé dipaké salaku suluh-énergi luhur sarta salaku oxidizer sarta propelan dina peluncuran rokét.